找出了一个小问题，不代表这次二💑硒化钨的数据🀪⛋分🁙析就完成了。
这次徐川过来帮忙的目的是为了分析寻找在二硒化钨平铺的过程中到底是哪里阻碍了它完整的结晶的数据💲🕴，而不是一开始就损耗了材料的问题。
当然，后者☖同样很重要，☜⛻毕竟一个小小的峰段就直接影🙉🈡⛝响了十来个百分点的成品率。
所以接下🟅🚱来的时间，🔤他的导师和师兄们有的忙了。
如果想要🟅🚱在溶剂热法这条合成道路上走下去，那么这個小峰段到底是因为什么原🐷🄜♽因造成的必须找到。
至于徐川，在了解🁈了这些实验数据对应的意义后，带着一些实验数据和资料回到🐷🄜♽了自己的宿舍。
他还是比较习惯在宿舍中或者图书馆中解决问题，前者安静无人打扰便于思考，后者则泛游于知识的海洋中，遇🁚🆙到什么问题可以第一时间去书架上找资料。
......
宿舍中，徐川将带回🔤来的资料平铺在书桌上，仔细的翻阅起来。🍡
虽🝙说他已经知道了二硒化钨平铺失败的原因，但要将其用数学语言描述出来🏹还是要花费点时间🙎🉑的。
“🝙从实验数据来看，还原剂干扰二硒化钨材料的问题只🙉🈡⛝出现正在溶剂热法上，其他🛏🛜的合成法并未出现类似的问题。”
“也就是说，问题要么出现在还原剂氢气上，那么则🝿🐻🅀出现在热溶剂上。”
“不过这点暂时放下，这需要实验进行论证，而接下来，就是在平铺后期二硒化钨🛏🛜纳米🏇🗼♚片因范德华力而出现坍缩或卷叠的问题。”
“这个问题才是最核🔤心的，但⛊😯🄶是要想解决，并不是那么🙉🈡⛝容易......”
“在先排除掉的🟠🞡还原剂和基底影响的情况下，从实验数据来看，不同浓度的二硒化钨原料在平铺过程中也有影响....🔷.”🌶🃤
匍匐在书🟅🚱桌前，徐川一边盯着带回来的数据一边🀪⛋在稿纸上写写画画。🂣🐥🁼
“设浓度为R，时间为T，温度为C，🏯压强为P，电流密度为A🍡、还原剂浓度为H......二硒化钨纳米片的坍缩现象在固定TCPR内随着H的提升而总体上.....不变？”
“嗯？这什么鬼情况？”
将手中的数据计算🁈了一遍后，徐川有些愕然的看着稿纸上的数据。
他都有些怀疑是不是自己算错了。
这怎🝅么可能，坍缩卷叠问题不受还原剂浓度影响？
摇了摇头，☖徐川从另一份实验数据上取来数据🄐☕，再度重🙉🈡⛝新计算了一遍，但结果却依旧差不太多。
又计算了两次，得出的结果依旧如此，虽然每一次的结果都有细微的不同，但整体而言，从数据来看，坍缩卷叠的确是不🔷受H浓度的影响。